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半導體激光氣體分析儀

◆測量原理 半導體激光吸收光譜(DLAS)技術利用激光能量被氣體分子“選頻”吸收形成吸收光譜的原理來測量氣體濃度。由于半導體激光器發射出特定波 長的激光束(僅能被被測氣體吸收),穿過被測氣體時,激光強度的衰減與被測氣體的濃度成一定的函數關系,因此,通過測量激光強度衰減信息就可 以分析獲得被測氣體的濃度。

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詳情內容

主要特點

測量精度高 、漂移小

系統以高穩定性 、低噪聲的半導體激光器為光源 ,采用半導體激光吸收光譜 (DL AS)技術 的 旁路 氣體 分析 系統 。 由于有效 克服 了背景 氣 氣體組份 、粉塵顆 粒 、光源變化等 因素對測量的影響,系統不僅擁有抗干擾能力強 ,檢測靈敏度高 的特點 ,還具有測量漂移小 、可靠性高等優勢。

高溫 、強腐蝕性氣體的在線檢測

系統采用非接觸光學檢測技術 ,可對各類高溫氣體(超過250 ℃ )進行直接分析; 針對各類腐蝕環境下 的檢測應用 ,系統可選配3 16L 、Mon e l 、PT FE等 多種材質 的測量氣室 ,滿足各類應用要求。

可靠性高 、響應速度快

基于半導體激光吸收光譜(DL AS)獨特的技術優勢 ,系統可采用熱法處理(預處理 系統加熱至100 ℃以上)和分析 ,旁路處理裝置無運動部件 ,可靠性高;本產 品 環境適應能力強 ,可直接安裝在過程管道處取樣 、處理和分析 ,響應速度快。

應用場景

水泥行業、垃圾焚化廠、石油工業、火力發電廠、各種工業窯/鍋爐、化學工業、醫藥行業、鋼鐵燒結/煉鋼廠等旁路測試系統。

技術參數

 

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